Sunny晶振,SX-6晶振,SN18130M7-26.00000-T&R晶振

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Sunny晶振,SX-6晶振,SN18130M7-26.00000-T&R晶振

频率：10~40MHZ

尺寸：6.0*3.5mm

贴片晶振本身体积小,超薄型石英晶体振荡器,特别适用于有目前高速发展的高端电子数码产品,因为晶振本身小型化需求的市场领域,小型,薄型是对应陶瓷振荡器(偏差大)和普通的石英晶体振荡器(偏差小)的中间领域的一种性价比较出色的产品.产品广泛用于笔记本电脑,无线电话,卫星导航SSD,USB,Blu-ray等用途,符合无铅焊接的高温回流焊曲线特性.

订购热线：0755-27837162

Sunny晶振,SX-6晶振,SN18130M7-26.00000-T&R晶振，Sunny晶振公司发展历史

2020年6月开发出面向5G的超低相位噪声CMOS XO;开发-40°C至150°C工作3225晶体谐振器
2020年11月开发2520、2016热敏电阻晶体;SX-32、SX-21的高度可靠的焊点测试完成

2021年9月最终选定为产业通商资源部主办的AEC-Q200可靠性利用支持项目
2021年10月最终选定为政府支持的开发项目开发可在-40℃至+150℃温度范围内运行的车辆用高可靠性晶体谐振器；
Sunny晶振,SX-6晶振,SN18130M7-26.00000-T&R晶振，优秀阳光电子公司下属研究所创建了研究人员和实验室打造具有国际竞争力的基础上,积极以追求客户满意的最大化进行了各种研究.韩国测试的全过程,并持有该国最大的研究者优秀的研究具有满腔的热情为高科技发展的最佳实验室Sunny晶振是在世界市场上的竞争力.

Sunny晶振,SX-6晶振,SN18130M7-26.00000-T&R晶振，韩国Sunny晶体公司于1966年创立,次年Sunny晶振公司开始生产普通晶体,直到1983年才成功制造出振荡器产品.主要研发生产SUNNY晶振,SUNNY有源晶振,温补晶振,石英晶体等频率元件.采用无铅无害环保材料生产,具有耐高温,高精度,低损耗,低抖动等特点

贴片晶振本身体积小,超薄型石英晶体振荡器,特别适用于有目前高速发展的高端电子数码产品,因为晶振本身小型化需求的市场领域,小型,薄型是对应陶瓷振荡器(偏差大)和普通的石英晶体振荡器(偏差小)的中间领域的一种性价比较出色的产品.产品广泛用于笔记本电脑,无线电话,卫星导航SSD,USB,Blu-ray等用途,符合无铅焊接的高温回流焊曲线特性.

Frequency Range	10.000 to 40.000 MHz
Operating Temperature Range	-20 to +70 ℃, -40 to +85 ℃, or specify
Storage Temperature Range	-40 to +85 ℃
Frequency Tolerance (at 25 ℃)	±15, ±30, ±50 ppm(STD), or specify
Frequency Stability Over Operating Temperature Range	±10 to ±50 ppm(-20 to +70 ℃) ±20 to ±100 ppm(-40 to +85 ℃)
Load Capacitance (CL)	18 pF(STD), Custom CL≥10 pF or Series Resonant
Drive Level	10 μW(200 μW Max.)
Shunt Capacitance (C0)	7.0 pF Max.
Aging (at 25 ℃)	±3 ppm/year Max.
Insulation Resistance	500 MΩ Min. at 100 V DC

SX-6

抗冲击
晶振可能会在某些条件下受到损坏。例如从桌上跌落或在贴装过程中受到冲击。如果产品已受过冲击请勿使用。
辐射
  暴露于辐射环境会导致石英晶体性能受到损害，因此应避免照射。Sunny晶振,SX-6晶振,SN18130M7-26.00000-T&R晶振.
化学制剂/pH值环境
  请勿在PH值范围可能导致腐蚀或溶解晶振或包装材料的环境下使用或储藏这些产品。
粘合剂
请勿使用可能导致SMD无源晶振所用的封装材料，终端，组件，玻璃材料以及气相沉积材料等受到腐蚀的胶粘剂。（比如，氯基胶粘剂可能腐蚀一个晶体单元的金属“盖”，从而破坏密封质量，降低性能。）
卤化合物
  请勿在卤素气体环境下使用贴片晶振。即使少量的卤素气体，比如在空气中的氯气内或封装所用金属部件内，都可能产生腐蚀。同时，请勿使用任何会释放出卤素气体的树脂。
静电
过高的静电可能会损坏石英晶体谐振器，请注意抗静电条件。请为容器和封装材料选择导电材料。在处理的时候，请使用电焊枪和无高电压泄漏的测量电路，并进行接地操作。