NDK合成石英晶体术语及其定义
石英晶体谐振器的原材料是天然的石英和水晶,后来因为数量短缺而被大量的人工培植,在18世纪80年代初居里夫人发现其压电效应之前,石英和水晶只是常见的矿石,可以制成工艺品供人观赏。当自身的价值和光华被挖掘出来后,百年来水晶石英成为不可稀缺的资源,为了保证足够的生产量,和节省制造成本,晶振厂家也在绞尽脑汁的培育,可替代而不影响性能的代替器,合成石英晶体就是在这样的背景下诞生的。以下关于合成石英晶体的专业术语,术语定义和相关技术资料,均由日本NDK晶振公司撰写,深圳市金洛鑫电子整理翻译。
合成石英晶体:用单晶生长的水热合成方法。
石英晶体:人造石英晶体的生长自然没有处理。
包含: 固体成分(夹杂物) 的一般术语,存在于合成石英晶体中;他们可以观察时,光被分散通过一个折射率接近的液体合成石英晶体谐振器。主要夹杂物acmite和 emeleusite。它们是由化学反应产生的。高压釜内的Fe和合成石英晶体的生长框架,Na从溶液,SiO2 的材料,等高温度和高压下。
双胞胎: Crystallographically,考虑到具体的方面或轴两个或更多的晶体对称地加入到一个晶体。几乎所有的孪生谐振器晶体都是合成的石英晶体是电子的, 和电双晶体影响合成石英晶体的形状。他们可以很容易地在视觉上被识别。
石英晶体:合成石英晶体与X和Z表面根据指定尺寸加工和角度使用钻石车轮 #80。Y型合成石英晶体:人造石英晶体生长通过使用在Y轴方向拉长的棒状种子晶体。Z板合成石英晶体:合成石英晶体用Y轴方向的板状种子晶体生长长度和X轴方向宽度。
右手和左手石英晶体:晶体是分为两类:右撇子和左撇子。一个光旋转的差异创造了2种类型, 但它们的物理属性是相同的。因此,通过切割在正确的角度, 差异不影响特征一个晶体振荡器。一般右手石英晶体是用于制造。
区域:晶体的一个区域, 从种子晶体生长在它的核心。有Z、+x、x和S区域。
蚀刻通道: 沿线性缺陷产生的管状腔水晶蚀刻时的水晶。当处理一个用于制造音叉晶体的晶体片振荡器或反转台面类型涉及蚀刻,合成石英晶体的低蚀刻通道密度特别合适。
红外吸收系数α:这个值用一个红外光谱仪作为红外吸收的应用合成石英晶体的系数α。该值基于合成的OH基的吸收特性石英晶振是大约3800到3000cm-1的红外线透射率曲线。通常, 吸收系数与波数3585、3500和3410cm-1已被采纳。(正如通常的做法一样,红外Q值也被描述为参考。
石英晶体:晶体石英从α晶体变为β石英水晶谐振器由于相变,温度为573℃。这一阶段转变是可逆的,但是从β石英晶体到α的转变晶体不是均匀发生的,双胞胎也是创造了。因此,必须小心,不要允许气温上升到573摄氏度以上。
石英晶体的性质:
成分:二氧化硅;晶体系统:三角系统;晶体群:D3(32);晶格常数:a=4.9027+70×10-6(t18);kXc=5.3934+47×10-6(t18)kX;1kX=1.0020630.00007+密度:2.649克/立方厘米;α-β相变温度:573℃。
合成石英晶体以垂直型制造高压釜(高温高压炉)水热合成法。高压釜由隔板分成上下两个隔间。晶种放置在上层隔间(生长区)和材料中在下部(溶解区)。一种稀碱性溶液然后倒入剩余60%-80%的自由空间,盖上盖子后,用加热器加热高压釜。当上隔室和下隔室的温度高压釜分别达到300-320℃和380-400℃,碱性溶液膨胀并被压缩;里面的压力达到130-145MPa。在这些高温高压下高压釜的下部隔室溶解在碱中溶液变成二氧化硅饱和溶液。这饱和了溶液由于温度引起的对流而上升的上隔室和下隔室之间的差异高压釜。当溶液到达高压釜,由于压力降低,它变得过饱和隔间的温度,并根据程度温差二氧化硅在晶种上结晶。溶液然后返回到热压并溶解这些材料,从而成为二氧化硅饱和溶液,由于对流,它上升并循环重复。这个过程的重复导致连续的合成石英水晶振动子的生长。
NDK公司全称是日本电波工业株式会社,1948年在东京成立,距今足足有70年的历史,在世界范围内都是有资历有名望的频率元件制造商,创办之初只是一家小公司,小工厂,凭借努力和长期坚持的科研开发,领悟了石英晶体和晶振的技术要点和理念定义。这些资料无私的奉献给业界和用户,推动行业的创新与发展,被客户授予“优秀合作供应商”的殊荣,NDK的石英晶振,贴片晶振,32.768K晶振,插件晶振,温补晶振,晶体振荡器,压控晶振几十年来在市场上火爆畅销,被广大客户群体认证指定使用。
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